常見專利申請誤區(qū)提前知曉巧規(guī)避

國家大力支持創(chuàng)業(yè)、創(chuàng)新，同時也加強了對知識產(chǎn)權(quán)的保護。而且現(xiàn)在國內(nèi)企業(yè)對專利在提升核心競爭力方面的作用有了進一步的認識，不斷投入財力物力進行專利申請，但很多企業(yè)在專利申請過程中，還是存在著很多的誤區(qū)，小編整理了一些關(guān)于專利申請的常見誤區(qū)，希望可以幫到*。

誤區(qū)1、產(chǎn)品大規(guī)模生產(chǎn)或運營后不再申請專利

有些權(quán)利人或者發(fā)明人認為申請了一項或者幾項專利后，就能永遠獲得保護，并且忽視后續(xù)研發(fā)或者申請工作。即使開發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進，也不再申請專利。這種一勞永逸的思想，會限制專利的延伸和專利保護，特別是，如果他人針對已申請的產(chǎn)品進行了改進，并且獲得了專利授權(quán)，就會影響原專利價值的發(fā)揮，甚至會導(dǎo)致原專利權(quán)人變成侵權(quán)人。特別是很多行業(yè)產(chǎn)品更新?lián)Q代比較快，如果沒有及時跟上專利申請的進程，就會落入這個誤區(qū)陷阱。

誤區(qū)2、創(chuàng)意沒有成型的產(chǎn)品或者投入生產(chǎn)，無需申請專利

很多權(quán)利人或者發(fā)明人認為，專利一定要有實際的產(chǎn)品，或者投入生產(chǎn)的工藝流程，才能申請專利。這是對專利申請保護認識不足造成的。特別是，在產(chǎn)品或者工藝思路被公開后，然后申請專利，即使獲得了授權(quán)，侵權(quán)人也會以專利申請之日技術(shù)已經(jīng)被公開為由進行抗辯，有些專利無效就是針對這種創(chuàng)意或者設(shè)計產(chǎn)品被提前公開進行的。實際上，專利只要有切實可行的想法，甚至是只有設(shè)計圖紙，或者思路，符合專利授權(quán)的三要素，就可以申請專利了，既能獲得專利保護，還能占領(lǐng)先機，更重要的是投入的成本也是*低的。

誤區(qū)3、一個產(chǎn)品僅僅申請一項專利

一些申請人或者發(fā)明人認為，一個產(chǎn)品只需要申請一個專利即可，有些認為要么是發(fā)明專利，要么是外觀專利或者實用新型專利。這是對專利的誤解所致。專利分為發(fā)明專利、實用新型和外觀專利三種，保護的側(cè)重點不同。發(fā)明專利主要針對創(chuàng)造性較強的專利，產(chǎn)品工藝方法或者產(chǎn)品結(jié)構(gòu)等等，一般需要兩年左右獲得授權(quán)；實用新型則是針對產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)方面申報保護，一般6個月左右獲得授權(quán)，外觀專利則是針對產(chǎn)品的外觀申請，一般4個月獲得授權(quán)。同一個產(chǎn)品，完全可以申請多個專利，產(chǎn)品外形、結(jié)構(gòu)或者工藝方便如有不同，具有足夠的創(chuàng)造性和新穎性，就能同時申請多類型或者多個專利，從不同角度獲得授權(quán)保護。

關(guān)于專利申請的誤區(qū)，小編就介紹這么多，可能不是很全面，希望可以幫到*，在專利申請過程中，如有其他問題，可搜索聯(lián)貝財務(wù)詳細咨詢，或者直接撥打我們的服務(wù)熱線進行咨詢。

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