知識產權|專利申請常見誤區(qū) 你是否中招了

現再知識產權得到了國家的保護，更得到了人們的重視，專利作為知識產權的重要組成部分，當然也是備受青睞了，但是在申請專利時很多申請人都存在著很大的誤區(qū)，下面小編將專利申請的常見誤區(qū)分享給*，趕緊看看你中招了沒有呢？

一些技術人員認為只要是自主創(chuàng)新，就有了自主知識產權。其實不然，專利是一種壟斷權，自主研發(fā)的技術成果如果不申請專利，就得不到法律確認和保護。當他人盜用其研究成果時，因研發(fā)者對成果不具有專利權，得不到法律保護，就無法追究盜用者的法律責任。

有部分發(fā)明人認為申請了一項專利后，就可“高枕無憂”，從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)工作，即使開發(fā)出了新產品或有了新改進，也不再申請專利。這種錯誤認識的后果不異于未申請專利。

在與發(fā)明人就申請專利的技術內容進行交流時，他們中有很多人都有這樣的想法：這一技術方案還未投入生產，也沒有產品問世，此時申請專利是為時過早，等產品大規(guī)模投入生產后再申請專利更合適。殊不知，這時已經晚了，即使你僥幸獲得授權，專利也處在不穩(wěn)定狀態(tài)之中。

有部分發(fā)明人認為一項技術成果一次只能申請一類專利，即只能申請發(fā)明專利或只能申請實用新型專利或者只能申請外觀設計專利。我國專利法規(guī)定的專利類型有三類：發(fā)明專利、實用新型專利及外觀設計專利，一項產品發(fā)明可同時申請多種專利，技術方案也可以同時申請實用新型和發(fā)明專利。

實用新型專利批得快，可盡快獲得相應保護，通常需1年左右時間；發(fā)明專利則通常需2～5年審查批準時間。隨著國家對知識產權程度的提高，專利審查批準的時間也相對縮短。

這是因為很多人對技術成果保護的方法不太清楚。對技術成果的保護可以采用兩種方式：申請專利通過法律加以保護和通過技術秘密由技術持有人自己加以保護，兩者各有利弊。

因此技術成果持有人可以在專利保護和技術秘密保護兩者之間加以權衡，選擇合適的方式。

不管是申請專利還是商標注冊遵循的都是在先申請原則，看看以上這些誤區(qū)你中了幾個？如果你有好的發(fā)明或者是產品和服務，申請專利才能更好的保護它們，現在不是說你發(fā)明的就是你的了，別人申請了專利也是別人的。

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